SCIENTIFIC RESEARCH
科研
射频
射频
CCP（电容性耦合的等离子体源）刻蚀机可覆盖65nm到5nm及更先进制程的逻辑芯片。
ICP（电感性耦合的等离子体源）刻蚀机则涵盖14nm到5nm制程。
进一步了解东能
感受东能助力工业科技转型 畅导能源产业绿色发展
东能(沈阳)能源工程技术有限公司
数字赋能 工业互联
联系信息
总部地址：辽宁省沈阳市沈河区文艺路26号万科中心35F
实验室地址：辽宁省沈阳市和平区三好街84-8号KY-12
一工厂地址：辽宁省沈阳市浑南区联东U谷浑南高新装备产业园34-2
鞍山分公司地址：辽宁省鞍山市铁东区万科东源大厦1207